熱酸化物ドライおよびウェット

 

最新のテクノロジーを使用して製造され、比類のない信頼性とパフォーマンスの一貫性を提供するように設計されています。 Thermal Oxide Dry and Wet は、業界のすべての厳しい要件を満たす高品質のウェーハを効率的に生産する方法を提供するため、世界中の半導体メーカーにとって不可欠なツールです。

 

熱酸化物ドライおよびウェットの主な利点の 1 つは、ウェーハの表面に高品質の酸化物層を提供できることです。 この酸化層は、シリコンを汚染から保護し、ウェーハ上の回路が適切に絶縁されていることを保証するために不可欠です。 酸化層は、高品質のウェーハの製造に不可欠な優れた膜品質と均一性も提供します。

 

Thermal Oxide Dry and Wet のもう 1 つの利点は、環境に優しい製品であることです。 環境への影響を最小限に抑え、製造プロセス全体で使用するリソースを削減するように設計されています。 そのため、持続可能で環境に優しい製造慣行に取り組む企業にとって理想的なソリューションとなります。

 

直径2"-12"、酸化膜厚さ30-1000nm、極厚仕様1-20umの加工が可能、均一性

 

http://ja.sibranchwafer.com/